台灣《中央社》報道，中國晶片研發技術據稱有重大突破，近日引起市場關注。傳言指中國已可生產8納米甚至更先進嘅晶片，仲有企業申請極紫外光（EUV）設備專利。不過，有專家對呢啲說法存疑，認為生產良率先係關鍵。

傳言甚囂塵上 官方未有實質證據

中國工信部近日公佈咗《重大技術裝備推廣應用指導目錄》，當中兩台曝光機被外界解讀為中國已取得重大技術突破，可以生產8納米及以下嘅晶片。德國之聲亦報道，上海微電子向中國國家知識產權局申請咗一系列EUV技術專利，可能意味著掌握咗製造7納米及以下晶片嘅關鍵能力。

同時，華為去年推出嘅旗艦手機Mate 60 Pro，據傳搭載咗中芯國際自製嘅7納米晶片。而喺今年上半年，市場傳言中芯國際喺冇EUV曝光機嘅情況下，成功自製5納米晶片並投產，將會搭載喺年底發售嘅華為Mate 70系列。呢啲相關說法再次引起熱議。

中國民眾熱烈慶祝 專家持保留態度

呢啲消息引發中國內外市場高度關注，唔少中國網民喺社交平台上「大肆慶祝」，認為中國研發技術成功突破美國封鎖。不過，有專家對此持保留態度。

英國廣播公司（BBC）中文網引述半導體研究者、新加坡國立大學商學院及李光耀公共政策學院講師Alex Capri指出，暫時冇決定性證據顯示華為擁有呢啲關鍵技術嘅全本土供應鏈。佢認為，華為可能係找到咗有效規避出口管制嘅方法，繼續獲得關鍵嘅外國技術。

另外，有專家表示，「華為自給自足」嘅敘述，某程度上宣傳咗美國出口管制嘅失敗，為中國技術官員提供咗巨大嘅內外宣傳價值。因此，華為喺呢種情況下，無法公開手機晶片同各種技術參數。

生產良率低 成功仍待觀察

據路透社去年9月Mate 60 Pro發售後嘅一篇報道指出，中芯國際7納米製程嘅良率低於50%，而業界標準係90%或更高。呢個情況將大幅限制晶片嘅出貨量，並影響手機產量。雖然民間熱烈宣傳，但中國官方對此事相對低調。截至目前，除咗工信部發布嘅目錄外，尚未有中國官方同廠商正式宣佈呢項消息，亦未見有實際應用公開。

事實上，自從美中科技戰開打以來，中國多次提及「突破技術封鎖」，但實際情況往往係「雷聲大，雨點小」。以今次備受關注嘅上海微電子為例，根據公開資訊，佢哋最早喺2020年6月初宣佈，將喺2021至2022年間交付首台中國自製嘅28納米浸潤式曝光機，編號為SSA/800-10W。但之後消息就無咗下文。

直到2023年5月，市場又傳出28納米曝光機即將面世；同年12月，上海張江集團透過微信公眾號稱「上海微電子已成功研製出28納米曝光機」，但不久就將相關內容刪除。截至目前，上海微電子官方網站嘅產品介紹中，仍未見到SSA/800-10W嘅蹤影。

根據中國半導體科技媒體《芯智訊》報道，從工信部日前發布嘅曝光機參數嚟睇，雖然比起上微嘅SSA600曝光機有提升，但未達到可以生產28納米晶片嘅水平，更遑論製造8納米、7納米晶片。報道指出，傳出呢啲消息可能係網友誤解咗參數嘅含義。《I》