美國科技媒體The Information週一引述知情人士報道，一家上海國資背景企業已經開始生產國產浸沒式深紫外（DUV）光刻機，今年目標製造約5台，2027年增至約20台，並會率先交付中芯國際（SMIC）、華虹半導體同長鑫存儲（CXMT），係中國減低對西方晶片設備依賴嘅重要一步，消息即時拖累荷蘭光刻機巨頭ASML股價急挫。

報道基於事件敏感，無點名呢間國資製造商，但透露公司為咗研發DUV，整合咗多家中國企業嘅團隊，當中包括上海宇量昇科技。宇量昇同華為生態圈嘅深圳設備商新凱來（SiCarrier）關係密切；去年9月已有報道，中芯國際當時正測試宇量昇製造嘅浸沒式DUV光刻機，設備針對28納米製程設計，配合多重圖案化技術理論上可以生產7納米甚至5納米晶片，不過良率偏低。

光刻機負責將電路圖案印上矽晶圓，被視為晶片製造最難攻克嘅環節。自從出口管制切斷咗中國取得最先進極紫外（EUV）光刻機嘅途徑之後，浸沒式DUV已經係中國晶片廠可以用到嘅最高階光刻工具，過去幾年內地廠商更大手囤積ASML舊款設備。報道又指，國產機器大部分零件已經本地化，但部分關鍵零部件仍然依賴日本供應；系統喺性能同埋整體質素上落後ASML，交付之後或需數以月計測試先可以正式投產。相比之下，ASML單係去年已經交付131台浸沒式DUV，國產機初期產量有限，短期內未至於構成即時威脅。

不過市場反應相當敏感。消息一出，ASML股價喺週一交易時段一度急瀉超過7%，跌至6月初以嚟低位，美國上市嘅設備同業應用材料（Applied Materials）、Lam Research同KLA亦跌約4%至7%。ASML未有回應置評請求，公司高層之前已經預期中國銷售會下滑；按最新年報，中國客戶去年佔ASML銷售額29.1%，2024年比例更高達36.1%。

事件正值華府醞釀加辣之際。美國國會4月提出跨黨派嘅MATCH法案，尋求立法全面禁止向中國出口DUV光刻系統，仲要求盟友150日內採取同等管制，否則華府會單方面擴大「外國直接產品規則」，法案目前仍喺委員會審議階段；法案並點名中芯、華為、華虹、長鑫同長江存儲為受限設施。分析認為，一旦國產DUV順利量產，呢類封鎖嘅實際效力勢必大打折扣。亦有外媒分析指，宇量昇測試中嘅系統規格僅接近ASML約2008年推出嘅型號，反映技術差距依然明顯，但喺限制不斷加碼之下，中國轉投本土設備嘅誘因只會有增無減。至於中國國產EUV光刻機，目前仍然停留喺原型階段。